SMEE亮相新一代光刻机模型

上海微电子装备集团（SMEE）在第九届中国国际进口博览会上展出自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800（模型），采用透明剖视设计，展示光学光路与机电系统布局。 该平台为国产标准化前道光刻装备架构，适配I-line、KrF两类主流技术路线，整机核心的高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统均实现全链条自主可控，具备稳定的工艺适配能力与产线运行可靠性。 目前国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先产品水平相当，套刻精度、生产效率紧密追赶国际标杆；关键零部件国产化率突破90%，已实现定型与规模化量产，填补国内空白。

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