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古河电工启动HVLP4铜箔产能翻倍计划

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AI 综述

古河电工宣布将把其用于AI服务器等高端领域的HVLP4铜箔(F0X-WS箔)产能在2029财年末提升至2026财年末水平的两倍,以满足客户对低损耗、高可靠性铜箔的需求。该扩产计划覆盖日本栃木县今市东工场及中国台湾云林县斗六市的两大生产基地。 公司同时表示将推进下一代HVLP5铜箔研发,并上调2026财年营收与营业利润目标,称未来将持续保持强劲增长。

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报道时间线

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11月10日
  1. 财联社 · 头条精选
    古河电工加码高端铜箔产能 提出HVLP4产能翻倍计划

    日本古河电工宣布将提升其HVLP4铜箔(F0X-WS箔)产能至2026财年末的两倍,目标在2029财年末实现。该产品用于AI服务器、高速交换机和光模块,表面粗糙度低于0.8微米,可降低信号损耗。公司同时上调2026财年营收与营业利润目标,并推进下一代HVLP5铜箔研发。同赛道厂商三井金属矿业也宣布扩产计划。

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